反滲透超純水設(shè)備是采用專用RO技術(shù)設(shè)計(jì)，關(guān)鍵部件和設(shè)備采用進(jìn)口名牌產(chǎn)品，工藝先進(jìn)，質(zhì)量可靠，可擴(kuò)展性強(qiáng)，結(jié)構(gòu)合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動(dòng)化運(yùn)行，操作維護(hù)簡(jiǎn)單。一般產(chǎn)水下限0.25m3/hr，上限不限，水回收率一般可達(dá)75%以上，脫鹽率>98%。產(chǎn)水量隨進(jìn)水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變。

　　反滲透設(shè)備

　　反滲透超純水設(shè)備工藝

　　1、預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點(diǎn)

　　2、預(yù)處理-一級(jí)反滲透-二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)

　　3、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)

　　4、預(yù)處理-紫外線殺菌裝置-一級(jí)RO裝置-二級(jí)RO裝置-中間水箱-EDI裝置-脫氧裝置-氮封純水箱-除TOCUV裝置-拋光混床-超濾裝置-用水點(diǎn)

　　水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))

　　反滲透超純水設(shè)備

　　反滲透超純水設(shè)備參數(shù)

　　1、進(jìn)水水質(zhì)：市政自來(lái)水，電導(dǎo)率≤500μs/cm。

　　2、產(chǎn)生水質(zhì)：一級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率<10μS/cm(以在線儀表監(jiān)測(cè)為準(zhǔn))。

　　二級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率<2μS/cm(以在線儀表監(jiān)測(cè)為準(zhǔn))。

　　混床產(chǎn)生電阻率：≥10MΩ·CM

　　EDI系統(tǒng)產(chǎn)水電阻率：≥15MΩ·CM

　　核能混床產(chǎn)水電阻率：≥18MΩ·CM

　　3、電源：380VAC50Hz三相四線。

　　4、相對(duì)濕度：≤80%、無(wú)強(qiáng)酸、強(qiáng)堿等揮發(fā)性氣體，無(wú)強(qiáng)電磁干擾。

　　5、安裝場(chǎng)地要求：地面設(shè)有防水層，地漏，保持排水通暢。

　　6、控制方式：自動(dòng)、手動(dòng)、全自動(dòng)PLC控制系統(tǒng)。

　　7、設(shè)備系統(tǒng)脫鹽率：≥99.5%。

　　8、進(jìn)水溫度：15-35度。

　　9、工作方式：可24小時(shí)連續(xù)工作。

　　10、反滲透設(shè)備回收率：50%-75%。

　　反滲透超純水設(shè)備圖片

　　目前反滲透超純水廣泛應(yīng)用于電子行業(yè)、核電行業(yè)、五金行業(yè)、電鍍行業(yè)、光學(xué)、科研等等。近年來(lái)開(kāi)始在國(guó)外推廣應(yīng)用的EDI(電去離子)技術(shù)，則是超純水制造技術(shù)的一次革命，從此進(jìn)入了一個(gè)無(wú)需再生化學(xué)品，而能生產(chǎn)出高達(dá)18MΩ·CM的超純水，用于半導(dǎo)體、集成電路等行業(yè)。反滲透超純水設(shè)備還有很多優(yōu)點(diǎn)，零部件均采用知名廠家，質(zhì)量可靠，自動(dòng)化程度高，遇故障立即自停，具有自動(dòng)保護(hù)功能，能耗低，運(yùn)行成本低，結(jié)構(gòu)合理，占地面積少，系統(tǒng)無(wú)易損部件，無(wú)需大量維修，運(yùn)行長(zhǎng)期有效等等。

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